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无配体铜介体电催化厌氧偶联反应

   2021-05-19 1220
核心提示:  美国俄亥俄州立大学Christo S. Sevov团队报道了无配体铜介体电催化厌氧Chan-Lam偶联反应。相关研究成果日前发表于《美国化学

  美国俄亥俄州立大学Christo S. Sevov团队报道了无配体铜介体电催化厌氧Chan-Lam偶联反应。相关研究成果日前发表于《美国化学会志》。

  在一些常用的转化合成中,简单的铜盐可以作为催化剂影响C-X键形成反应,包括芳基硼酸和胺的氧化偶联。然而,这些Chan-Lam偶联反应一直依赖于化学氧化剂,从而限制了其在小规模合成之外的适用性。尽管用电化学方法成功取代强化学氧化剂用于各种金属催化过程,但无配体铜催化剂的电氧化反应仍受到电子转移动力学缓慢、不可逆镀铜和竞争性底物氧化的困扰。

  该文中,研究人员报告了亚化学计量量的氧化还原介质的实施,以解决铜催化电合成的限制。机理研究表明,介质具有多种作用:快速氧化低价铜中间体,从阴极剥离铜金属以再生催化剂并露出用于质子还原的活性铂表面,以及提供阳极过充保护以防止基底氧化。

  该策略适用于芳基、杂芳基和烷基胺在没有化学氧化剂的情况下与芳基硼酸的Chan-Lam偶联。在这些电化学条件下,偶联反应比在空气中的常规反应具有更高的产率和更短的反应时间,并提供互补的底物反应性。

  相关论文信息:

  https://doi.org/10.1021/jacs.1c02103

 









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